背景
佛山一家铜加工企业生产电工用铜杆与铜排，对导电率要求严格。杂质元素即使只有几个 ppm 的波动，也会影响最终性能。
原来的做法
常规直读能测主量成分，但痕量元素的检出限不够，只能依赖外部检测机构做仲裁，周期长、费用高，出了争议也难以及时定位。
配置
SPECTROLAB S 高端台式直读光谱仪。双光室分别覆盖 120–240 nm 与 210–770 nm，CMOS T 检测器记录每一颗火花的强度，高纯铜的痕量检出限较上一代提升约 30%。
使用情况
日常用于原料与成品的痕量元素控制，争议批次自行复测，不再依赖外部仲裁。单火花统计还可用于观察样品均匀性，帮助判断铸造环节是否存在偏析。